据韩联社及路透社等媒体报导，存储巨头SK海力士公司正于引进EUV（极紫外）光刻装备，以加速产能扩张及向进步前辈工艺过渡。

报导称，SK海力士在3月24日公布，引进荷兰装备制造商ASML的EUV光刻装备。

这次采购总金额约为11.9496万亿韩元（约合79.7亿美元），占SK海力士2024年末总资产的9.97%。该笔资金涵盖了装备引进、安装及调试的用度，整个交赋予部署周期将连续约两年，直至2027年12月。

这项投资是为了应答通用DRAM以和人工智能（AI）内存（包括高带宽内存HBM）不停增加的需求。思量到办事器及挪动装备等下流行业对于通用内存的需求稳步增加，该公司规划专注在保障不变供给。

详细而言，SK海力士规划加速向第六代（1c）工艺的过渡，并经由过程引入EUV装备来扩大AI存储器产物组合。

1c工艺是SK海力士于全世界规模内率先开发的技能，规划运用在下一代HBM、DDR5及LPDDR6等重要产物线。

此前，SK海力士接踵开发出1c DDR5 DRAM及LPDDR6产物，确保了其于进步前辈制造工艺方面的竞争力。该工艺的特色是能显著提高出产效率、能效以和数据处置惩罚速率。

值患上一提的是，于采办EUV装备的同时，SK海力士也于加快产能扩充，致力在扩展出产基地。据报导，SK海力士近期于其位在清州的M15X工场启用了第二个干净室，并最先安装装备，比原规划5月份的进度提早了两个月。至此，M15X的两间干净室均已经预备就绪，行将周全投入运营。此外，SK海力士还有规划扩展龙仁一期工场的出产范围，并估计在2027年2月最先干净室运营。

SK海力士一名卖力人暗示：“咱们将经由过程向进步前辈的EUV工艺转型，加强于人工智能存储器范畴的竞争力，并稳步扩展通用存储器的供给。咱们将巩固市场领先职位地方，以应答全世界存储器需求的激增。”